발명의 명칭: 가스 제거 장치 및 방법
출원일자: 2019-01-04
출원번호:
10-2019-0001150
등록일자: 2019-04-25
등록번호: 10-1974647
발명의 요약:
본 발명은 반도체 기판 처리 장치 가동 중에 밸브 매니폴드 박스의 배관에 잔류하는 가스를 제거할 수 있는 가스 제거 장치에 관한 것입니다. 가스 제거 장치는 배관의 밸브 매니폴드 박스 측 단부에 연결되는 연결 라인과; 상기 연결 라인을 통해 상기 배관으로 퍼지 가스를 주입하는 퍼지 가스 주입부와; 상기 연결 라인을 통해 상기 배관 내의 가스를 외부로 배기하는 배기부를 포함합니다.
이 건은 경기도 오산시 고객께서 KRP를 통해 진행한 가스 제거 장치 및 방법에 관한 건으로, 우선심사와 심사관 면담을 통해 3개월만에 특허등록 받고 기술의 우성이 인정되어 삼성전자와 공동 사업화에
성공한 사례입니다. 이 건은 PCT 국제출원을 진행하여 해외에서도 사업화하고자 준비 중에 있습니다.
* KRP특허법률사무소는 경쟁력과 가치있는 특허를 만들어 국내/해외에서 사업성공에 도움을 주고자 최선의 노력을 다하고 있습니다.
